光刻機
20200704
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光刻機（英語：Mask Aligner）是製造微機電、光電、二極體大規模集成電路的關鍵設備。可以分為兩種，分別是模板與圖樣大小一致的contact aligner，曝光時模板緊貼晶圓；以及利用類似投影機原理的stepper，獲得比模板更小的曝光圖樣。
概要
生産集成電路的簡要步驟：
- 利用模版去除晶圓表面的保護膜。
- 將晶圓浸泡在腐化劑中，失去保護膜的部分被腐蝕掉後形成電路。
- 用純水洗淨殘留在晶圓表面的雜質。
其中光刻機就是利用紫外綫通過模版去除晶圓表面的保護膜的設備。
一片晶圓可以製作數十個集成電路，根據模版曝光機分為兩種：
- 模版和晶圓大小一樣，模版不動。
- 模版和集成電路大小一樣，模版隨曝光機聚焦部分移動。
其中模版隨光刻機移動的方式，模版相對光刻機中心位置不變，始終利用聚焦鏡頭中心部分能得到更高的精度。成為目前的主流。
主要廠商
光刻機是生産大規模集成電路的核心設備，製造和維護需要高度的光學和電子工業基礎，世界上衹有少數廠傢掌握。因此光刻機價格昂貴，通常在 3 千萬至 5 億美元。